九所科技参展2026高技术陶瓷学术年会

第二十四届全国高技术陶瓷学术年会将于2026年10月30日至11月2日在山东泰安举办。天津市九所科技发展有限公司将携900℃真空升降坩埚炉与1600℃升降坩埚炉参展，与业内同仁共探先进陶瓷材料制备的装备方案。

本届年会由中国硅酸盐学会特种陶瓷分会主办、清华大学承办，设置19个专题及4个论坛，覆盖铁电压电陶瓷、陶瓷特种成型与烧结技术、高熵陶瓷、纳米材料与器件等方向。作为每两年一届的学术平台，年会将汇聚国内陶瓷领域的专家学者与工程技术人员，同期举办先进陶瓷技术、设备、产品展览会。

九所科技坐落于天津市（gaoduan）精密仪器产业园，专注于科研仪器自动化集成研发与制造，技术人员占比达40%，长期为高校及科研机构提供非标自动化设备与实验电炉解决方案。此次展出的多款设备，覆盖从常规烧结到超高温、气氛保护等不同实验场景需求。

900℃真空升降坩埚炉将加热系统与真空环境一体化集成，常用工作温度850℃，真空度可达-0.1MPa，适用于金属熔炼及新材料研发中需要无氧或气氛保护的加热场景。1600℃升降坩埚炉面向更高温的陶瓷烧结与材料热处理需求，适合先进陶瓷、粉末冶金等领域的实验与小批量制备。

管式炉产品线覆盖1000℃至1700℃、单温区到五温区、常压到压力管式炉的完整系列。其中多温区管式炉可以在同一炉体内实现梯度烧结、多阶段反应或CVD/升华凝华等复合工艺。

                              图1：双温区管式炉                                                                         图2：小型管式炉                                                  

1700℃管式炉适用于陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等领域的CVD、PVD实验及真空退火工艺，炉膛采用氧化铝陶瓷纤维，反应管为刚玉管。

CVD/PECVD与薄膜沉积设备具有涂层成分可控、适用复杂温差、结构等特点，在陶瓷基复合材料界面涂层、功能梯度涂层等方面具备优异特性。

在箱式炉产品线中，1600℃箱式电炉/马弗炉采用日本技术生产的多晶莫来纤维（氧化铝陶瓷纤维）真空吸附一次成型，加热元件可选优质合金电阻丝、硅碳棒或硅钼棒，配合MCGS触摸屏控制系统，支持WIFI环境下远程控制与检修。该系列设备适用性广、装载量大、温度均匀，适合先进陶瓷的常规烧结实验。

图3：箱式炉/马弗炉

1600℃箱式真空气氛炉则面向需要气氛或真空环境的高温烧结反应场景。该设备由金属真空容器、加热炉、供电及控制系统组成，无需水冷即可达到1600℃有效加热温度，有别于传统箱式气氛炉，减少了热损失并提高热效率。设备采用调压控制、触摸屏操作，并具备远程监测控制功能。

图4：卧式真空气氛炉

针对碳素材料、碳纤维复合材料及超高温陶瓷等前沿方向，九所科技还推出3000℃超高温石墨化烧结炉。该设备采用中频感应加热，输出稳定、效率高，最高温度可达3000℃，常用温度2800℃，炉体为双层水冷结构，适用于碳素材料、复合材料、金属冶炼等领域的高温烧结需求。

欢迎各位专家、学者及业界同仁莅临九所科技展位（展位号：26）交流指导，现场了解设备详情并洽谈合作。10月30日至11月2日，泰安见。