自动化CVD系统：集成联动，助力化学气相沉积研究

自动化CVD系统：集成联动，助力化学气相沉积研究

一、系统概述

本系统为一款集成化CVD设备，热处理温度可达1200℃（连续使用温度1100℃），适用于多种材料的沉积工艺研究。系统主要特点包括：

ü                      三通道供气：支持多种气体组合（如需通入易燃易爆或腐蚀性气体，请提前沟通确认）

ü                      高真空度：极限真空度可达5×10⁻² Pa（不带负载）

ü                      自动化控制：触摸屏操作，实现热处理、混气、真空模块联动

二、       系统组成与技术参数

1. 热处理系统

2. 温控系统

l                      控制方式：7英寸触控智能微电脑PID温控仪表，联动控制集成

l                      控制技术：SSR控制，PID参数自整定，超温报警

l                      编程功能：可编程15组30个程序段，支持自动升温、保温和停止

l                      控制精度：±1℃

3. 三通道混气系统

l                      电源：AC208-240V 50/60Hz

l                      流量范围：0-500 SCCM（以氩气、甲烷、二氧化碳为标定气体）（可选量程和气体标定）

l                      控制精度：±1.5% FS

l                      混气模式：支持氩气与甲烷、氩气与二氧化碳进入混气罐，两组气体可切换使用

l                      自动控制：通过电磁阀实现进气与出气量调节

4. 真空系统

l                      真空泵型号：VRD-8 （可选配）

l                      抽速：2L/S

l                      电源：AC220V 50/60Hz

l                      极限真空度：5×10⁻² Pa（不带负载）

l                      自动控制：可增配自动控制电气配件

5. 认证标准与核心零部件

认证标准：符合CE、UL等认证要求核心零部件品牌：ABB、欧米茄、东明等

三、售后服务

①　       质保期：一年（耗材除外）

②　       维护服务：终身维护，24小时在线技术支持

特别提示：加热元件、炉管、坩埚等耗材不在质保范围内；因使用腐蚀性气体造成的损害不予保修

四、使用注意事项

为确保设备安全稳定运行，请严格遵守以下要求：

Ø                      气压限制：采用石英炉管时，炉管内气压不得高于0.02MPa

Ø                      气瓶配置：必须安装减压阀，建议选用量程为0.01-0.1MPa的减压阀，以保证气体通入精确性与安全性

Ø                      加热操作：如需关闭气阀加热，必须实时观察压力表示数，若超过0.02MPa需立即打开泄气阀

Ø                      流量控制：气体流量建议控制在≤200 SCCM（即200ml/min）以内

五、适用场景

自动化控制CVD系统适用于：

l                      高校、科研院所的材料科学研究

l                      企业实验室的薄膜制备与纳米结构生长实验

l                      需要高真空度和多气体组合的化学气相沉积工艺

l                      其集成化设计与自动化控制功能，有助于提升实验效率与数据重复性，是现代材料研究实验室的理想选择。

如您对本系统感兴趣，欢迎通过微信公众号留言或联系相关技术人员获取更多信息与技术支持。