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HMDS烘箱的应用

2025年02月28日 08:38 来源:爱义信工业科技(上海)有限责任公司

HMDS烘箱主要用于半导体和微电子制造中的光刻工艺,具体应用如下:

1. 去除光刻胶中的溶剂

  • 预烘烤:在涂覆光刻胶后,HMDS烘箱通过加热去除胶中的溶剂,增强胶与基底的附着力。

2. 增强附着力

  • HMDS处理:HMDS作为增附剂,烘箱加热使其与基底表面反应,形成化学键,提升光刻胶的附着力。

3. 提高光刻精度

  • 均匀加热:烘箱提供均匀加热,确保光刻胶厚度一致,减少缺陷,提升图案精度。

4. 工艺稳定性

  • 精确控温:烘箱具备精确的温度控制,确保工艺稳定性和重复性。

5. 提高生产效率

  • 批量处理:可同时处理多个晶圆,提升生产效率。

6. 应用领域

  • 半导体制造:用于晶圆上的光刻胶处理。

  • MEMS制造:在微机电系统中用于光刻工艺。

  • 显示技术:在LCD和OLED制造中用于光刻胶处理。

总结

HMDS烘箱在半导体和微电子制造中至关重要,通过去除溶剂、增强附着力、提高精度和稳定性,确保光刻工艺的高效与可靠。


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