真空热压炉OTF-1200X-VHP4
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  • 2025-01-03 09:00

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产品详细


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产品简介: 真空热压炉 OTF-1200X-VHP4 是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具,  5T 压力下 可键合多层基片。本机可以加热到 1100  ℃,并设有 30 段控温程序。


产品型号

真空热压炉 OTF-1200X-VHP4

安装条件

本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃ ,湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)


2、电: AC380V 50Hz63A 空气开关),必须有良好接地


3 、气: 设备腔室内需充注氩气(纯度 99.99%以上 需自备氩气气瓶(自带 Ø6mm 双卡套接


头)


4、工作台: 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上


5、通风装置:需要

主要特点

1、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和洁净度,同时延长使用寿命。


2、石英管两端设有带水冷的法兰。


3 、在石英管内真空环境下,通过底部可调整弯管移动液压柱,将压力传输到模具。

技术参数

1、输入电源: AC 220V    50Hz/60Hz    6KW


2、输出功率: 2.2KW


3、石英管: 外径 Ø100mm ,内径 Ø95mm ,长 1200mm





4、加热区域: 300mm


5、工作温度: 1100


6、控温精度:± 1


7 、电动压力泵负载: 20T


8、气缸: Ø25mm


9、可移动行程: 15mm


10、压力: 6T(压力表显示 10MPa


12、真空度: 10-2torr (机械泵), 10-5torr  (分子泵)

产品规格

尺寸: 1050mm×750mm×1750mm;重量: 365kg

可选配件

1、真空泵


2、循环水冷机


3、耐高温压力模具


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